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納米圖案硅印章
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納米圖案硅印章 |
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主要特點(diǎn)/優(yōu)勢(shì)：納米圖案硅印章 |
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這些基底可以用于光學(xué)、光子學(xué)、生物學(xué)、化學(xué)、物理學(xué)（例如，中子散射）、聚合物研究、納米壓印、微流體學(xué)等多個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域。如果需要，基底可以涂上金屬或電介質(zhì)涂層。大多數(shù)表面特征具有略呈梯形的橫截面輪廓，帶有直線平行臺(tái)地和溝槽。也提供像格子一樣的結(jié)構(gòu)。有多種特征尺寸和溝槽深度可供選擇。在發(fā)貨前，可以采取基底的掃描電子顯微鏡(SEM)圖像，以驗(yàn)證確切的輪廓。 表中顯示的尺寸代表目標(biāo)值。周期的準(zhǔn)確度優(yōu)于0.5%，而溝槽深度和線寬和間距可能與目標(biāo)值相差15%。SEM圖像僅供說明。如果需要更精確的尺寸信息，我們可以提供您所訂購(gòu)的特定納米印章的SEM，作為可選服務(wù)。 |
