軟X射線/XUV/VUV光譜儀具有集成的狹縫支架、閘閥和濾光片插入裝置，以及沿三個軸的電動光柵定位功能。
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EVEREST 軟X射線 / XUV / VUV光譜儀
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EVEREST 軟X射線 / XUV / VUV光譜儀
我們的軟X射線/XUV/VUV光譜儀具有矯正像差的平場成像功能，并配備三個光柵，覆蓋波長范圍為1-17 nm（73 - 1240 eV）、5-80 nm（15 - 248 eV）和30-200 nm（6 - 41 eV）。為了最大程度提高光收集效率，該光譜儀可以在不同的光源距離下使用，包括3-17 nm、10-80 nm和30-200 nm的波長范圍，而無需入射狹縫。其模塊化設(shè)計(jì)可適應(yīng)不同的實(shí)驗(yàn)幾何和配置。它具有集成的狹縫支架、閘閥和濾光片插入裝置，以及沿三個軸的電動光柵定位功能。
| 主要特點(diǎn)/優(yōu)勢： |
- 平場斜入射光譜儀
- 單個光柵的波長覆蓋范圍:
- 軟X射線: 1-17 nm (73 – 1240 eV)
- XUV: 5-80 nm (15 – 248 eV)
- VUV: 30-200 nm (6 – 41 eV)
- 可選擇電動三光柵版本
- 可帶或不帶入射狹縫操作
- 適用于不同幾何選項(xiàng)的適配器
- 集成閘閥和濾光片插入裝置
- 操作壓力<10-6 mbar，可選擇獨(dú)立真空操作的無油泵系統(tǒng)
- 靈活選擇探測器:X射線CCD相機(jī)或MCP相機(jī)系統(tǒng)
- 用戶友好的對準(zhǔn)、采集和查看軟件，包括后處理工具
| 規(guī)格參數(shù)： |
| 光柵 1 | 光柵 2 | 光柵 3 | |||||
| 波長范圍 | 1-6 nm | 3-17 nm | 5-20 nm | 10-60 nm | 25-80 nm | 80-200 nm | 30-200 nm |
| 光子能量范圍 | 207-1240 eV | 73-413 eV | 62-248 eV | 21-124 eV | 15-50 eV | 6-15 eV | 6-41 eV |
| 操作模式 | 入口狹縫 | 無狹縫 | 入口狹縫 | 無狹縫 | 無狹縫 | 入口狹縫 | 無狹縫 |
| 光源距離 | 任意 | 0.4-0.6 m | 任意 | 0.4-0.6 m | 0.5-1.5 m | 任意 | 2-10 m |
| 分辨率 | 0.01 nm | 0.03 nm | 0.02 nm | 0.09 nm | 0.1 nm | 0.05 nm | 0.2 nm |
| 樣品測量： |
作為樣品測量，下面的圖像展示了我們的軟X射線/XUV/VUV光譜儀和軟件的能力。它顯示了通過飛秒激光脈沖與氣體靶的相互作用以及隨后的光譜濾波所產(chǎn)生的高次諧波譜，該譜由軟X射線/XUV CCD相機(jī)獲取。我們還提供后處理工具，用于校準(zhǔn)、合并和分析大量原始數(shù)據(jù)，如下所示。最終的XUV光譜揭示了與生成過程固有的最精細(xì)的亞結(jié)構(gòu)。
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- 左圖：我們用戶友好的軟件的截圖，顯示了XUV光子范圍內(nèi)高次諧波生成輻射的測量結(jié)果
- 右圖：相應(yīng)的已校準(zhǔn)的光譜，以波長和能量表示
